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              • NP-CMP化學機械拋光液制備設備

                化學機械拋光液制備設備主要用于CMP(化學機械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學機械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學機械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。

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                更新日期:2023-12-20
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